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三星EUV光刻工艺的6nm、7nm芯片已经量产
三星EUV光刻工艺的6nm、7nm芯片已经量产
来源:TGBUS原创作者:胖涛2020-02-21 01:40
2月21日消息,据外媒报道,三星位于韩国的V1 晶圆工厂已经开始大规模生产EUV光刻工艺的6nm与7nm芯片,将在第一季度交付产品,用于高端移动设备。

2月21日消息,据外媒报道,三星位于韩国的V1 晶圆工厂已经开始大规模生产EUV光刻工艺的6nm与7nm芯片,将在第一季度交付产品,用于高端移动设备。

三星EUV光刻工艺的6nm、7nm芯片已经量产

三星表示,V1生产线是三星第一条采用EUV光刻工艺的半导体生产线。V1生产线于2018年2月破土动工,并在2019年下半年开始测试晶圆生产,该生产线生产的第一批产品将在今年第一季度交付给客户。而且除7nm芯片与6nm芯片外,V1生产线还将继续攻关,直至突破3nm壁垒。

三星EUV光刻工艺的6nm、7nm芯片已经量产

三星于2018年2月开始建造V1生产线,并于2019下半年开始晶片的测试生产。现在,该公司将继续扩大V1晶圆厂产能规模。预计到2020年底时,EUV 7nm以下总产能节点数量将是2019年的三倍,且针对V1的累计投资将达到60亿美元。


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