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EUV光刻
台积电7nm+大量供货：首个商用EUV极紫外光刻技术
新闻 2019-10-09 09:26 白字

昨日消息，台积电宣布N7+ 7nm+工艺已经大批量供应给客户，这是该公司乃至全产业首个商用EUV极紫外光刻技术的工艺。EUV光刻采用波长为10-14nm的极紫外光作为光源，可使曝光波长直接降到13.5nm，研发，推动更先进工艺。
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